西門(mén)子EDI模塊維護(hù)。
根據(jù)用戶(hù)的數(shù)據(jù)和描述，制定初步的維護(hù)計(jì)劃。
2.EDI模塊到達(dá)工廠后，檢查其外觀是否損壞。
確認(rèn)無(wú)誤后，將EDI模塊安裝在EDI測(cè)試機(jī)上運(yùn)行，檢查其異常參數(shù)并進(jìn)行記錄。
機(jī)器檢測(cè)和清洗，如有必要進(jìn)行拆卸檢查，更換內(nèi)部損壞的部件，包括板材、陽(yáng)離子膜、樹(shù)脂、隔板、連接線(xiàn)、密封圈等損壞材料。
4.EDI模塊清理完畢后，更換新材料，更換后用鎖緊螺栓組裝。
組裝完成后，將EDI模塊安裝在EDI模塊再生機(jī)上，進(jìn)行長(zhǎng)達(dá)10小時(shí)的再生操作，并詳細(xì)記錄參數(shù)。

工業(yè)EDI去離子水設(shè)備是目前比較的電滲析和離子交換技術(shù)，與普通去離子水設(shè)備相比，不僅提高了導(dǎo)電性，而且增強(qiáng)了離子從溶液到膜表面的遷移，提高了極限電流密度，是許多對(duì)水要求較高的行業(yè)的理想設(shè)備之一。
隨著這種純凈水設(shè)備的口感越來(lái)越好，EDI去離子水設(shè)備的應(yīng)用也越來(lái)越廣泛。
在維護(hù)中，需要注意哪些問(wèn)題？
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軟化水設(shè)備多少錢(qián)一套， 河南全自動(dòng)軟化水設(shè)備報(bào)價(jià) ，河南軟化水設(shè)備廠 ，河南工業(yè)軟化水設(shè)備報(bào)價(jià) 河南純水軟化水系統(tǒng) 【河南江宇環(huán)?？萍脊尽?br /> EDI模塊水質(zhì)惡化的維護(hù)要點(diǎn):
對(duì)于EDI模塊的維護(hù)，需要分析水質(zhì)惡化是否由樹(shù)脂或管道污染、參數(shù)設(shè)置錯(cuò)誤、電壓不足引起。
1. 干凈的EDI。
水質(zhì)惡化的主要原因是樹(shù)脂被污染，進(jìn)出口的污染也可能導(dǎo)致出水水質(zhì)惡化，可以通過(guò)分析污染類(lèi)型，采取有針對(duì)性的清洗來(lái)解決。
2. 調(diào)整參數(shù)。
如果產(chǎn)水參數(shù)不在正確范圍內(nèi)，則水質(zhì)會(huì)變差，可以通過(guò)調(diào)整相關(guān)的產(chǎn)水參數(shù)來(lái)解決問(wèn)題。
3.調(diào)整電源。
如果是電源極性，應(yīng)立即切斷電源，檢查接線(xiàn)，將直流電壓調(diào)整到規(guī)定的范圍，并檢查各電路連接是否正確。EDI模塊水質(zhì)惡化的維護(hù)要點(diǎn):
對(duì)于EDI模塊的維護(hù)，需要分析水質(zhì)惡化是否由樹(shù)脂或管道污染、參數(shù)設(shè)置錯(cuò)誤、電壓不足引起。
1. 干凈的EDI。
水質(zhì)惡化的主要原因是樹(shù)脂被污染，進(jìn)出口的污染也可能導(dǎo)致出水水質(zhì)惡化，可以通過(guò)分析污染類(lèi)型，采取有針對(duì)性的清洗來(lái)解決。
2. 調(diào)整參數(shù)。
如果產(chǎn)水參數(shù)不在正確范圍內(nèi)，則水質(zhì)會(huì)變差，可以通過(guò)調(diào)整相關(guān)的產(chǎn)水參數(shù)來(lái)解決問(wèn)題。
3.調(diào)整電源。
如果是電源極性，應(yīng)立即切斷電源，檢查接線(xiàn)，將直流電壓調(diào)整到規(guī)定的范圍，并檢查各電路連接是否正確。

（1）常用配件如EDI樹(shù)脂、陰陽(yáng)膜片、陰陽(yáng)極板、框架隔板密封圈等，均******產(chǎn)品，延長(zhǎng)膜塊的使用壽命。

（2）常見(jiàn)問(wèn)題如EDI氧化、EDI接頭斷裂、內(nèi)部發(fā)熱燒壞、純水室污堵、濃水室積垢、隔板漏水、內(nèi)部老化等造成的EDI水質(zhì)下降、流量下降、漏水漏電等，均能夠有效修復(fù)，修復(fù)后EDI膜塊的性能和質(zhì)量均能達(dá)到甚至超過(guò)原品。

離子交換樹(shù)脂的應(yīng)用

1.羅門(mén)哈斯離子交換樹(shù)脂的作用是清除水中或其他溶液中的金屬以及其他雜質(zhì)離子，起到凈化水的作用。

2.羅門(mén)哈斯離子交換樹(shù)脂拋光樹(shù)脂一般用于超純水處理系統(tǒng)末端，來(lái)***系統(tǒng)出水水質(zhì)能夠維持用水標(biāo)準(zhǔn)。一般出水水質(zhì)都能達(dá)到18兆歐以上，以及對(duì)TOC、SIO2都有一定的控制能力。

IONPURE西門(mén)子EDI模塊 EDI系統(tǒng)IONPURE西門(mén)子EDI模塊IP-LXM45ZEDI模塊是出水量為5噸規(guī)格的模塊，是西門(mén)子公司針對(duì)工業(yè)水處理打造的EDI模塊產(chǎn)品。針對(duì)工業(yè)應(yīng)用而開(kāi)發(fā)西門(mén)子工業(yè)型膜堆利用連續(xù)電去離子技術(shù)（CEDI）生產(chǎn)高純水，其產(chǎn)水水質(zhì)等同甚至優(yōu)于混床出水。由純水室、濃水室、電極板等部分組成。

-LXM30Z運(yùn)行參數(shù)及產(chǎn)水水質(zhì)

典型膜堆性能
操作參數(shù)
回收率 90-95%
允許進(jìn)水壓力上限 7bar（100psi）
允許進(jìn)水溫度上限 45℃（113F）
名義流量時(shí)的壓降范圍 1.4-2.1bar（20-30psi）
產(chǎn)水水質(zhì)
產(chǎn)水電阻率 >16MQ.cm（見(jiàn)下面說(shuō)明）
說(shuō)明：實(shí)際性能可以用lonpure的IP-Pro設(shè)計(jì)軟件確定
硅（SiO2）去除率 90-99%，取決于進(jìn)水條件

超純水在光學(xué)領(lǐng)域發(fā)揮著越來(lái)越重要的作用。超純水的水質(zhì)純度已成為影響光學(xué)器件產(chǎn)品質(zhì)量、產(chǎn)量和生產(chǎn)成本的重要因素之一。

　　光學(xué)領(lǐng)域在以下情形下需要使用超純水：

　　1、用于清潔的超純水。如果水中含有氯離子，電容器就會(huì)漏電。

　　2、在電子管的生產(chǎn)中，電子管的陰極涂有碳酸鹽。如果混入雜質(zhì)，會(huì)影響電子管的質(zhì)量。因此，應(yīng)使用超純水進(jìn)行液體制備。

　　3、在顯像管和陰極射線(xiàn)管的生產(chǎn)中，通過(guò)噴涂或沉淀法在熒光屏的內(nèi)壁上附著一層熒光物質(zhì)，該熒光物質(zhì)是由鋅或其他金屬的硫化物組成的熒光顆粒，并與硅酸鉀粘結(jié)，其制備也需要超純水。

4、在黑白顯像管熒光屏生產(chǎn)的12道工序中，玻殼清洗、沉淀、潤(rùn)濕、洗膜、管頸清洗等5道工序需要超純水。

　　5、液晶屏需要用超純水清洗，并與超純水混合。如果水中含有金屬離子、微生物和顆粒等雜質(zhì)，LCD電路將出現(xiàn)故障，影響LCD屏幕的質(zhì)量。

　　6、在晶體管和集成電路生產(chǎn)中，超純水主要用于清洗硅片，少量用于藥液配制、部分設(shè)備冷卻水、電鍍液配制等。

　　超純水設(shè)備已經(jīng)成為電子產(chǎn)品質(zhì)量安全的重要設(shè)備。根據(jù)光學(xué)元件用水要求，對(duì)超純水處理技術(shù)進(jìn)行了全自動(dòng) EDI超純水處理、預(yù)處理及反滲透處理，有效去除水中的各種鹽類(lèi)和雜質(zhì)，進(jìn)一步改善水質(zhì)，使出水水質(zhì)滿(mǎn)足現(xiàn)場(chǎng)光學(xué)元件的用水要求。在原料選擇、設(shè)計(jì)技術(shù)、數(shù)據(jù)監(jiān)測(cè)、環(huán)境保護(hù)等方面均有較好的應(yīng)用前景。改進(jìn)工藝可提高系統(tǒng)回收率，降低能耗和運(yùn)行費(fèi)用。

使用EDI超純水系統(tǒng)時(shí)有一定的規(guī)則，用戶(hù)需要遵守這些規(guī)則。，在使用設(shè)備時(shí)，不能立即進(jìn)入工作狀態(tài)。操作前預(yù)熱并等待10分鐘。然后，讓我們看看EDI超純水系統(tǒng)的維護(hù)和使用注意事項(xiàng)。

　　一、EDI超純水系統(tǒng)運(yùn)行

　　設(shè)備在運(yùn)行一段時(shí)間后可能會(huì)發(fā)熱。這是正常的，但在設(shè)備運(yùn)行了一定時(shí)間后，有必要讓設(shè)備休息一下。

　　此外，EDI超純水系統(tǒng)的工作時(shí)間為每天8小時(shí)，10小時(shí)可以，但使用一段時(shí)間后，用戶(hù)清潔設(shè)備以恢復(fù)受污染設(shè)備的原始性能。在恢復(fù)設(shè)備性能的同時(shí)，應(yīng)盡可能確保清洗安全，避免損壞超純水系統(tǒng)。