近年設(shè)計(jì)成的新型的斜板或斜管沉淀池。主要就是在池中加設(shè)斜板或斜管，可以大大提高沉淀效率，縮短沉淀時(shí)間，減小沉淀池體積。但有斜板、斜管易結(jié)垢，長(zhǎng)生物膜，產(chǎn)生浮渣，維修工作量大，管材、板材壽命低等缺點(diǎn)。正在研究試驗(yàn)的還有周邊進(jìn)水沉淀池、回轉(zhuǎn)配水沉淀池以及中途排水沉淀池等。沉淀池有各種不同的用途。如在曝氣池前設(shè)初次沉淀池可以降低污水中懸浮物含量，減輕生物處理負(fù)荷在曝氣池后設(shè)二次沉淀池可以截流活性污泥。此外，還有在二級(jí)處理后設(shè)置的化學(xué)沉淀池，即在沉淀池中投加混凝劑，用以提高難以生物降解的有機(jī)物、能被氧化的物質(zhì)和產(chǎn)色物質(zhì)等的去除效率。

配備不停水自動(dòng)沖洗系統(tǒng)，解決在水平管壁面上的沉泥附著積累問(wèn)題。平面形式為矩形的沉淀池，水從 池的一端流入，沿長(zhǎng)度方向緩慢流動(dòng)， 借助水中顆?；蛐躞w的重力沉降作用 以去除水中懸浮物，水從另一端流出。 分進(jìn)水區(qū)、出水區(qū)、沉淀區(qū)、儲(chǔ)泥區(qū)和緩 沖區(qū)五部分。進(jìn)水區(qū)設(shè)均勻分布的進(jìn) 水孔口，出水區(qū)采用溢流堰以澄清 水沿整個(gè)斷面均勻流出。平流式沉淀 池的設(shè)計(jì)應(yīng)使進(jìn)、出水均勻，池內(nèi)水流 穩(wěn)定，提高水池的有效容積，同時(shí)減少 紊動(dòng)影響，以有利于提高沉淀效率。

為避免短流，一是在設(shè)計(jì)中盡量采取一些措施（如采用適宜的進(jìn)水分配裝置，以消除進(jìn)口射流，使水流均勻分布在沉淀池的過(guò)水?dāng)嗝嫔希档臀闪鞑⒎乐刮勰鄥^(qū)附近的流速過(guò)大，采用指形出水槽以延長(zhǎng)出流堰的長(zhǎng)度；沉淀池加蓋或設(shè)置隔墻，以降低池水受風(fēng)力和光照升溫的影響；高濃度水經(jīng)過(guò)預(yù)沉，以減少進(jìn)水懸浮固體濃度高產(chǎn)生的異重流等）；二是加強(qiáng)運(yùn)行管理，在沉淀池投產(chǎn)前應(yīng)嚴(yán)格檢查出水堰是否平直，發(fā)現(xiàn)問(wèn)題，要及時(shí)修理。在運(yùn)行中，浮渣可能堵塞部分溢流堰口，致使整個(gè)出流堰的單位長(zhǎng)度溢流量不等而產(chǎn)生水流抽吸，操作人員應(yīng)及時(shí)清理堰口上的浮渣；用塑料加工的鋸齒形三角堰因時(shí)間關(guān)系，可能發(fā)生變形，管理人員應(yīng)及時(shí)維修或更換，以出流均勻，減少短流。通過(guò)采取上述措施，可使沉淀池的短流現(xiàn)象降低到小限度。

對(duì)于已經(jīng)在斜板和斜管上生長(zhǎng)的藻類，可用高壓力水沖洗，往往一經(jīng)沖洗即可去除附著的藻類?；钚晕勰嗵幚硐到y(tǒng)的二次沉淀池是該系統(tǒng)的重要組成部分。二次沉淀池的運(yùn)轉(zhuǎn)是否正常，直接關(guān)系到處理系統(tǒng)的出水水質(zhì)和回流污泥的濃度，對(duì)整個(gè)系統(tǒng)的凈化效果產(chǎn)生重大影響。二次沉淀池運(yùn)行管理較為復(fù)雜，其運(yùn)行過(guò)程中常見(jiàn)問(wèn)題及防止措施參見(jiàn)“活性污泥法處理系統(tǒng)的運(yùn)行管理”。

沉淀池一般是在生化前或生化后泥水分離的構(gòu)筑物，多為分離顆粒較細(xì)的污泥。在生化之前的稱為初沉池，沉淀的污泥無(wú)機(jī)成分較多，污泥含水率相對(duì)于二沉池污泥低些。位于生化之后的沉淀池一般稱為二沉池，多為有機(jī)污泥，污泥含水率較高。
異向流斜管沉淀池的水力計(jì)算可歸納為如下三種：
2.1分離粒徑法：
可分離顆粒的粒徑dp可表示為：
若用可分離顆粒沉速us來(lái)表示，則：
式中：Q—onclick=g(沉淀池)>沉淀池流量
η——有效系數(shù);
μ——顆粒沉降速度，m/s;
Af——斜板水平投影面積之總和，m;
A′f——斜板實(shí)際總面積，m;
θ——斜板傾斜角度，(°);
l——斜板斜長(zhǎng)，m;
h——斜板安裝高度，m;
B——池寬，m;
v——板內(nèi)流速，m/s;
P——水平板距，m;
N——斜板間隔數(shù);
L——斜板組合全長(zhǎng)(相當(dāng)于池長(zhǎng))，m;
h1——積泥高度 (泥斗高度)，m;
h2——配水區(qū)高度，m;
h3——保護(hù)高度，m;
H——沉淀池總高度，m;
t——顆粒沉降需要時(shí)間，s;
L′——顆粒沉降需要長(zhǎng)度，m。