鍍生產、鍍件表面質量好、適用的零件范圍廣等諸多性在電鍍生產中應用廣泛。但是隨著電鍍行業(yè)的不斷發(fā)展，對產量、質量和減小污染的要求也越來越高了，全自動滾鍍設備就這這個背景下應運而生了。
電鍍電源經歷了四個發(fā)展階段：
(1) 直流發(fā)電機階段這種電源耗能大、效率低、噪聲大．已經被淘汰。
(2) 硅整流階段是直流發(fā)電機的換代產品，技術十分成熟，但效率低，體積大，控制不方便。目前，仍有許多企業(yè)使用這種電鍍電源。
(3) 可控硅整流階段是目前替代硅整流電源的主流電源，具有、體積小、調控方便等特點。隨著核心器件——可控硅技術的成熟與發(fā)展．該電源技術日趨成熟，已獲得廣泛應用。
(4) 晶體管開關電源即脈沖電源階段脈沖電鍍電源是當今為的電鍍電源，它的出現是電鍍電源的一次革命。這種電源具有體積小、、性能、紋波系數穩(wěn)定．而且不易受輸出電流影響等特點。脈沖電鍍電源是發(fā)展的方向，現已開始在企業(yè)中使用了。
復合鍍是將固體微粒加入鍍液中與金屬或合金共沉積，形成一種金屬基的表面復合材料的過程，以滿足特殊的應用要求。根據鍍層與基體金屬之間的電化學性質分類，電鍍層可分為陽極性鍍層和陰極性鍍層兩大類。凡鍍層金屬相對于基體金屬的電位為負時，形成腐蝕微電池時鍍層為陽極，故稱陽極性鍍層，如鋼鐵件上的鍍鋅層；而鍍層金屬相對于基體金屬的電位為正時，形成腐蝕微電池時鍍層為陰極，故稱陰極性鍍層，如鋼鐵件上的鍍鎳層和鍍錫層等。
電鍍設備是電鍍行業(yè)的一大發(fā)明和創(chuàng)新，電鍍設備的出現，標志著電鍍行業(yè)的一大進步和發(fā)展前景。電鍍設備打破了傳統的線材電鍍方法和方式，電鍍設備是只有一臺立的機床來完成不同材料、不同直徑大小的線材電鍍。相比較以前的線材電鍍來說，電鍍設備具有投資少、耗材少、見效快、環(huán)保等優(yōu)點。
化學鍍是一種自催化還原工藝。當鍍液中有細小固體微粒時,則成為催化還原中心,鍍液中的本含量就不高的主鹽金屬離子,不是在工件上而是在這些微粒上很快還原而消耗掉,鍍液會很快失效而報廢。只有及時通過過濾去除這些微粒,才能或延長化學鍍液的使用壽命。
電鍍電源電鍍電源是電鍍生產過程中重要的輔助設備。國內大量應用的還是硅整流器和可控硅整流器，分為調壓器調壓、磁飽和電抗器調壓及可控硅凋壓。電鍍用硅整流器和可控硅整流器都是低壓大電流，一般為12V(鍍鉻選用18V)，電流從100A至20000A都有可控硅調壓的硅整流器只有在負荷較高時渡形良好穩(wěn)流穩(wěn)壓、穩(wěn)定電流密度的電鍍電源也正在推廣應用。
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