供應(yīng)商 | 上海增雨實(shí)業(yè)有限公司 店鋪 |
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認(rèn)證 | |
報(bào)價(jià) | 人民幣 1500000.00元 |
關(guān)鍵詞 | 唐鎮(zhèn)鉭塊回收,新城鉭塊回收,鉭塊回收經(jīng)久耐用,鉭塊回收品質(zhì)優(yōu)良 |
所在地 | 上海市松江區(qū)泖港鎮(zhèn)中厙路167號(hào)196室 |
8年
當(dāng)超大規(guī)模集成電路的特征尺寸縮小至小于65nnm或者更小時(shí),傳統(tǒng)的二氧化硅柵介質(zhì)層的厚度就需要小于1.4nm,而如此薄的二氧化硅層會(huì)大幅度增加器件功耗,并且減弱柵極電壓控制溝道的能力。在等效氧化層厚度保持不變的情況下,使用高介電材料替換傳統(tǒng)的柵極介質(zhì),使用加大介質(zhì)層物理厚度的方法,可以明顯減弱直接隧穿效應(yīng),并增加器件的可靠性。所以,找尋高介電的柵介質(zhì)材料就成了當(dāng)務(wù)之急。在高介電柵介質(zhì)材料中,由于五氧化二鉭既具有較高的介電常數(shù)(K-26),又能夠兼容與傳統(tǒng)的硅工藝,被普遍認(rèn)為是在新一代的動(dòng)態(tài)隨機(jī)存儲(chǔ)器(DRAM)電容器件材料中相當(dāng)有潛力的替代品
Ta2O5(氧化鉭)薄膜的光譜透過波段為0.3~10um,是可見光到近紅外波段重要的高折射率材料之一。
鉭的硬度較低,并與含氧量相關(guān),普通純鉭,退火態(tài)的維氏硬度僅有140HV [1] 。它的熔點(diǎn)高達(dá)2995℃
驗(yàn),鉭在常溫下,對(duì)堿溶液、、溴水、稀硫酸以及其他許多藥劑均不起作用,僅在氫氟酸和熱作用下有所反應(yīng)。這樣的情況在金屬中是比較的。
冶煉方法:鉭鈮礦中常伴有多種金屬,鉭冶煉的主要步驟是分解精礦,凈化和分離鉭、鈮,以制取鉭、鈮的純化合物,后制取金屬。
鉭磁控濺射靶材所具有的特性,使它的應(yīng)用領(lǐng)域十分廣闊
中國(guó)鉭工業(yè)始于20世紀(jì)60年代 。中國(guó)初期鉭冶煉、加工生產(chǎn)規(guī)模、技術(shù)水平、產(chǎn)品檔次和質(zhì)量狀況與發(fā)達(dá)國(guó)家比較相差甚遠(yuǎn)。自90年代,特別是1995年以來,中國(guó)鉭生產(chǎn)應(yīng)用呈現(xiàn)出快速發(fā)展的態(tài)勢(shì),如今,中國(guó)鉭工業(yè)已實(shí)現(xiàn)了“從小到大、從軍到民、從內(nèi)到外”的轉(zhuǎn)變,形成了世界的從采礦、冶煉、加工到應(yīng)用的工業(yè)體系,高、中、低端產(chǎn)品的進(jìn)入了國(guó)際市場(chǎng),中國(guó)成為世界鉭冶煉加工第三強(qiáng)國(guó),進(jìn)入世界鉭工業(yè)大國(guó)的行列
在化工、電子、電氣等工業(yè)中,鉭可以取代過去需要由貴重金屬鉑承擔(dān)的任務(wù),使所需費(fèi)用大大降低
鉭鈮礦中常伴有多種金屬,廢鉭冶煉的主要步驟是分解精礦,凈化和分離鉭、鈮,以制取鉭、鈮的純化合物,后制取金屬。礦石分解可采用分解法、熔融法和氯化法等。鉭鈮分離可采用溶劑萃取法〔常用的萃取劑為甲基異丁基銅(MIBK)、三丁酯 (TBP)、仲辛醇和乙酰胺等〕、分步結(jié)晶法和離子交換法。
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