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智能起倒旋轉靶

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  • 定制鋯管靶Zr702鋯旋轉靶材鍍膜用鋯濺射靶材鋯靶塊加工
    480.00元
    鋯(Zirconium)是一種金屬元素，元素符號Zr，密度6.49g/cm3，熔點1852°C，沸點4377°C。鋯是一種銀白色過渡金屬，因其制取工藝復雜，不易被提取，所以也常被稱為“稀有金屬”。事實上，鋯在地殼中..
    01月02日
  • 武漢靶材隨州高純?yōu)R射靶材孝感ito旋轉靶材
    1.00元
    產品名稱：鉬靶材 純度: 99. 密度：≥10.2g/cm3 尺寸范圍：--- (可根據客戶需求定制） 外 觀：在顯微鏡下觀察，管子內外表面呈現出均勻的金屬光澤，無氧化、氫化變色、劃傷、變形、毛刺
    01月28日
  • 襄樊靶材十堰高純?yōu)R射靶材荊門ito旋轉靶材
    1.00元
    鉬靶材廣泛用于導電玻璃、STN/TN/TFT-LCD、光學玻璃、離子鍍膜等行業(yè)，適用所有平面鍍膜及旋轉鍍膜系統(tǒng)。 鉬靶 密度10.2克/立方厘米。熔點2610℃。沸點5560℃。 鉬靶材純度：99.9% ，99.99% ..
    01月16日
  • 張家口靶材保定高純?yōu)R射靶材承德ito旋轉靶材
    1.00元
    高純鉬靶是AMOLED面板生產中的關鍵原材料之一，該公司的新產品是適用于TFT-LCD/AMOLED的超寬高純高密鉬平面濺射靶材，主要應用于G2.5-G6代TFT-LCD/AMOLED，填補了國內寬幅鉬靶(1800mm)空白，..
    12月17日
  • 合肥靶材蕪湖高純?yōu)R射靶材蚌埠ito旋轉靶材
    1.00元
    高純鉬靶是AMOLED面板生產中的關鍵原材料之一，該公司的新產品是適用于TFT-LCD/AMOLED的超寬高純高密鉬平面濺射靶材，主要應用于G2.5-G6代TFT-LCD/AMOLED，填補了國內寬幅鉬靶(1800mm)空白，..
    12月10日
  • 煙臺靶材濰坊高純?yōu)R射靶材淄博ito旋轉靶材
    1.00元
    高純鉬靶是AMOLED面板生產中的關鍵原材料之一，該公司的新產品是適用于TFT-LCD/AMOLED的超寬高純高密鉬平面濺射靶材，主要應用于G2.5-G6代TFT-LCD/AMOLED，填補了國內寬幅鉬靶(1800mm)空白，..
    11月06日
  • 青島靶材棗莊高純?yōu)R射靶材東營ito旋轉靶材
    1.00元
    高純鉬靶是AMOLED面板生產中的關鍵原材料之一，該公司的新產品是適用于TFT-LCD/AMOLED的超寬高純高密鉬平面濺射靶材，主要應用于G2.5-G6代TFT-LCD/AMOLED，填補了國內寬幅鉬靶(1800mm)空白，..
    10月28日
  • 蘇州靶材南通高純?yōu)R射靶材連云港ito旋轉靶材
    面議
    高純鉬靶是AMOLED面板生產中的關鍵原材料之一，該公司的新產品是適用于TFT-LCD/AMOLED的超寬高純高密鉬平面濺射靶材，主要應用于G2.5-G6代TFT-LCD/AMOLED，填補了國內寬幅鉬靶(1800mm)空白，..
    09月28日
  • 無錫靶材徐州高純?yōu)R射靶材常州ito旋轉靶材
    面議
    鉬靶材廣泛用于導電玻璃、STN/TN/TFT-LCD、光學玻璃、離子鍍膜等行業(yè)，適用所有平面鍍膜及旋轉鍍膜系統(tǒng)。 鉬靶 密度10.2克/立方厘米。熔點2610℃。沸點5560℃。 鉬靶材純度：99.9% ，99.99% ..
    09月18日
  • 上海靶材重慶高純?yōu)R射靶材合肥ito旋轉靶材
    面議
    高純鉬靶是AMOLED面板生產中的關鍵原材料之一，該公司的新產品是適用于TFT-LCD/AMOLED的超寬高純高密鉬平面濺射靶材，主要應用于G2.5-G6代TFT-LCD/AMOLED，填補了國內寬幅鉬靶(1800mm)空白，..
    08月27日
  • 成都靶材鄂爾多斯高純?yōu)R射靶材上海ito旋轉靶材
    面議
    鉬靶材廣泛用于導電玻璃、STN/TN/TFT-LCD、光學玻璃、離子鍍膜等行業(yè)，適用所有平面鍍膜及旋轉鍍膜系統(tǒng)。 鉬靶 密度10.2克/立方厘米。熔點2610℃。沸點5560℃。 鉬靶材純度：99.9% ，99.99% ..
    08月17日
  • 鈦管靶旋轉靶材真空鍍膜耗材Ta1Ta2金屬靶材廠
    500.00元
    鈦管 我公司采用擠壓管胚，深孔鉆等加工技術，質量得到了了客戶的好評。 規(guī)格最大我們可做到直徑160mm 內徑130 長度4000mm， 材質;TA1 TA2 TC4, 具體的規(guī)格可根據客戶的要求來定做。
    04月09日
  • 鎳靶管/鎳管靶/鎳旋轉靶/N6鎳管靶
    200.00元
    品名：1#鎳 牌號：Ni99.96 產地：寶雞 鎳含量≥：99.6（%） 雜質含量：0.4（%） 重量：不等（kg/塊） 用途：用于半導體分離器件、平面顯示器、儲存器電極薄膜、濺射鍍膜、工件表面涂層，玻
    01月04日
  • 側轉靶機制造商西安立靶
    面議
    側轉靶機制造商西安立靶，在靶設備方面可實現多元化制造及結合，專心研發(fā)20多錢。公司發(fā)展目標：力爭世界靶設備供應商和服務商。 企業(yè)精神：真誠 務實 創(chuàng)新 高效</a>
    04月10日
  • PVD濺射高純鎳合金鎳釩濺射鍍膜靶材93:7wt%,蒸發(fā)鍍膜顆粒材料鎳釩合金旋轉靶材
    33.00元
    高純鎳合金鎳釩濺射鍍膜靶材93:7 wt%,蒸發(fā)鍍膜顆粒材料，鎳釩合金旋轉靶材 英文名稱：Nickel Vanadium (Ni-V) Sputtering Target，元素比例：Ni93% V7% 專注于生產具有最高密度和最小平均晶..
    09月12日
  • 平頂山銅鎢合金焦作鎢電極鶴壁ito旋轉靶材
    面議
    產品名稱：鉬靶材 純度: 99.95% 密度：≥10.2g/cm3 尺寸范圍：--- (可根據客戶需求定制） 外 觀：在顯微鏡下觀察，管子內外表面呈現出均勻的金屬光澤，無氧化、氫化變色、劃傷、變形、毛
    06月01日
  • 衡水銅鎢合金邢臺鎢電極秦皇島ito旋轉靶材
    面議
    鉬靶 密度10.2克/立方厘米。熔點2610℃。沸點5560℃。 鉬靶材純度：99.9% ，99.99% 規(guī)格：圓形靶，板靶，旋轉靶 鉬靶材廣泛用于導電玻璃、STN/TN/TFT-LCD、光學玻璃、離子鍍膜等行業(yè)，適用所..
    06月01日
  • 陜西本地制造研發(fā)起倒靶精度報靶系統(tǒng)
    面議
    西安立靶公司經過多年的發(fā)展與技術沉淀，成為一家成熟的靶場建設專業(yè)公司。陜西本地制造研發(fā)起倒靶精度報靶系統(tǒng)
    04月30日
  • 西安制造靶設備及靶場室內外的建設
    面議
    展望未來，西安立靶科工貿公司將以更加努力的姿態(tài)闊步向前，為我國軍事現代化及反抗處突做出自己的貢獻，打造世界的射擊場及射擊訓練設備供應商。展望未來，西安立靶科工貿公司將以
    06月18日
  • 出售全新制造的靶設備及靶場建設
    面議
    公司下轄研發(fā)部、工程部、生產部、采購部、銷售部、智造部、工廠生產、駐外部等部門，擁有員工近百余名。西安立靶科工貿有限公司注冊資金1億元。
    06月17日
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