高純水設(shè)備（EDI）概述：
EDI高純水設(shè)備作為制取超純水的設(shè)備，作為反滲透設(shè)備后的二次除鹽設(shè)備，可以制取出高達(dá)10-18.2MΩ.CM。因此廣泛用于微電子工業(yè)，半導(dǎo)體工業(yè)，發(fā)電工業(yè)，制藥行業(yè)和實(shí)驗(yàn)室。也可以作為制藥蒸餾水、食物和飲料生產(chǎn)用水、發(fā)電廠(chǎng)的鍋爐的補(bǔ)給水，以及其它應(yīng)用高純水。
高純水設(shè)備的本質(zhì)及原理：
連續(xù)電除鹽（EDI，Electro deionization或CDI，continuous electrode ionization),是利用混和離子交換樹(shù)脂吸附給水中的陰陽(yáng)離子，同時(shí)這些被吸附的離子又在直流電壓的作用下，分別透過(guò)陰陽(yáng)離子交換膜而被除去的過(guò)程。這一過(guò)程離子交換樹(shù)脂是電連續(xù)再生的，因此不需要使用酸和堿對(duì)之再生。這一新技術(shù)可以替代傳統(tǒng)的離子交換裝置，生產(chǎn)出高達(dá)18M-CM的超純水。又可以比較清晰地描述如下：EDI是利用陰、陽(yáng)離子膜，采用對(duì)稱(chēng)堆放的形式，在陰、陽(yáng)離子膜中間夾著陰、陽(yáng)離子樹(shù)脂，分別在直流電壓的作用下，進(jìn)行陰、陽(yáng)離子交換。而同時(shí)在電壓梯度的作用下，水會(huì)發(fā)生電解產(chǎn)生大量H+和OH-，這些H+和OH-對(duì)離子膜中間的陰、陽(yáng)離子不斷地進(jìn)行了再生。由于EDI不停進(jìn)行交換——再生，使得純水度越來(lái)越高，所以，輕而易舉的產(chǎn)生了高純度的高純水。
流程：
采用反滲透設(shè)備與電去離子（EDI）設(shè)備進(jìn)行搭配制備高純水的的方式，這是一種制取超純水的新工藝，也是一種環(huán)保，經(jīng)濟(jì)，發(fā)展?jié)摿Φ某兯苽涔に?，其基本工藝流程為：原水→多介質(zhì)過(guò)濾器→活性炭過(guò)濾器→精密過(guò)濾器→中間水箱→反滲透設(shè)備→中間水箱→二級(jí)反滲透→中間水箱→EDI→超純水箱→超純水泵→后置保安過(guò)濾器→出水。
EDI高純水設(shè)備性能優(yōu)勢(shì)：
1、可連續(xù)，穩(wěn)定地生產(chǎn)純水，無(wú)需因樹(shù)脂再生而停機(jī)； 　　
2、物排放，既環(huán)保又省去了廢液處理的投資； 　　
3、設(shè)備結(jié)構(gòu)緊湊，占地面積小，節(jié)省空間，同時(shí)還具有節(jié)能優(yōu)點(diǎn)； 　　
4、出廠(chǎng)完成裝置調(diào)試，現(xiàn)場(chǎng)工作量小，上崗培訓(xùn)容易； 　　
5、日常保養(yǎng)，操作簡(jiǎn)單，勞動(dòng)強(qiáng)度低。
電子工業(yè)用超純水的應(yīng)用領(lǐng)域：
1、半導(dǎo)體材料、器件、印刷電路板和集成電路成品、半成品用超純水；　 　　
2、超純材料和超純化學(xué)試劑勾兌用超純水；　 　　
3、實(shí)驗(yàn)室和中試車(chē)間用超純水；　 　　
4、汽車(chē)、家電表面拋光處理；　 　　
5、光電子產(chǎn)品；　 　　
6、其他高科技精微產(chǎn)品；

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