廈門光刻膠    美國光刻膠

• 功能?：在光刻膠和基底界面之間形成牢固的化學鍵或強力的分子間作用力

• ?主要作用?：

• 防止圖形失效：避免顯影液沖洗時因附著力不足導致的光刻膠圖形剝離、起皺或變形

• 抵抗刻蝕和離子注入：在刻蝕過程中保護基底，防止"底切"現(xiàn)象

• 改善表面潤濕性：使光刻膠更好地在基底表面鋪展，形成均勻無缺陷的膠膜

• 去除表面微量水分：某些增粘劑能與硅片表面的硅羥基反應，消除因水分子導致的弱邊界層

• ?外觀?：透明澄清液體

• ?有效成分含量?：80%±2

• ?酸價?：55~60 mgKOH/g

• ?粘度?：15~30（格氏管/25℃）

• ?溶劑?：主要成分為異丙醇

• ?比重?：1.08-1.10

1. ?半導體制造?：用于光刻工藝中增強光刻膠與硅片等基材的附著力

2. ?電子元器件制造?：提高光刻膠在各類電子元件上的粘附性能

3. ?微納結(jié)構(gòu)制作?：確保光刻膠在復雜結(jié)構(gòu)上的附著穩(wěn)定性

4. ?特殊封裝工藝?：用于需要高附著力的封裝應用場景