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臺積電和三星都宣布采用深紫外(EUV)光刻技。
臺積電已經(jīng)投資新建5nm生產(chǎn)線，2020年后將啟動建設3nm制程工廠。三是圍繞摩爾定律的產(chǎn)品技術創(chuàng)新活躍。在半導體技術繼續(xù)延續(xù)摩爾定律發(fā)展的同時，以新材料、新結構、新器件為特點的摩爾定律為半導體產(chǎn)業(yè)提供了新的發(fā)展方向。

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