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FUTURREX刻蝕工藝負性光刻膠NR4-8000P半導體制造用

更新時間：2025-09-26 [舉報]

響應速度

快

貯存方式

避光常溫保管

厚度范圍

0.1~200UM

加工定制

是

優(yōu)點

高深寬比，垂直性好

品名

光刻膠

包裝

250ml分裝

批號

新

發(fā)貨地

江蘇

售賣地區(qū)

全國

香型

無味

耐溫

180℃

發(fā)貨周期

現(xiàn)貨速發(fā)

類型

半導體材料


標簽：FUTURREX刻蝕工藝負性
廈門良廈貿易有限公司
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