熱處理過程中使用氫氣（H?）作為保護氣體或還原氣體時，氫氣的純度對工藝質(zhì)量、產(chǎn)品性能和設(shè)備安全具有重要影響。因此， 氫氣雜質(zhì)檢測 是熱處理工藝中不可或缺的一環(huán)。 一、為什么需要檢測氫氣中的雜質(zhì)？ 在熱處理中，氫氣常用于： 退火 ：改善材料組織結(jié)構(gòu) 淬火 ：控制冷卻速度 滲碳/氮化 ：提供還原性氣氛 燒結(jié) ：防止氧化 若氫氣中含有雜質(zhì)（如氧氣、水分、氮氣、 、二氧化碳、甲 等），導致以下問題： | 雜質(zhì) | 影響 | | | | | 氧氣（O?） | 易燃易爆，引起爆炸；與金屬反應(yīng)導致氧化 | | 水分（H?O） | 引起金屬腐蝕、降低材料強度 | | 氮氣（N?） | 稀釋氫氣濃度，影響還原效果 | | （CO） | 參與不完全燃燒，產(chǎn)生有毒氣體 | | 二氧化碳（CO?） | 酸性氣體，腐蝕設(shè)備 | | 甲 （CH?） | 不可燃氣體，降低氫氣純度 | 二、氫氣雜質(zhì)檢測項目 常見的氫氣雜質(zhì)檢測項目包括： | 檢測項目 | 含量范圍（ppm） | 測量方法 | | | | | | 氧氣（O?） | ≤10 ppm | 氣相色譜法（GC）、電化學傳感器 | | 水分（H?O） | ≤10 ppm | 露點儀、電解法、卡爾費休滴定 | | 氮氣（N?） | ≤50 ppm | 氣相色譜法（GC） | | （CO） | ≤5 ppm | 氣相色譜法（GC）、紅外吸收法 | | 二氧化碳（CO?） | ≤5 ppm | 氣相色譜法（GC）、非分散紅外法 | | 甲 （CH?） | ≤10 ppm | 氣相色譜法（GC） | | 其他烴類（C?H?, C?H?等） | ≤5 ppm | 氣相色譜法（GC） | 三、檢測方法

1. 氣相色譜法（GC） 原理：利用不同氣體組分在色譜柱中的分離特性進行分析。 優(yōu)點：、可同時檢測多種氣體。 常用檢測器： TCD（熱導檢測器） FID（火焰離子化檢測器） ECD（電子捕獲檢測器）

2. 2. 露點儀 用于測量氫氣中的水分含量（以露點溫度表示）。 常見類型：鏡面冷凝式、阻抗式、半導體式。

3. 3. 電化學傳感器 適用于快速檢測氧氣、 等氣體。 優(yōu)點：響應(yīng)快、成本低。