半導(dǎo)體拋光樹(shù)脂是一種用于半導(dǎo)體制造過(guò)程中的材料，主要用于拋光半導(dǎo)體晶圓的表面。它能夠去除晶圓表面的缺陷、氧化層以及其他污染物，使晶圓表面變得平滑，以提高半導(dǎo)體器件的性能和可靠性。 半導(dǎo)體拋光樹(shù)脂通常由有機(jī)聚合物、磨料和添加劑組成。有機(jī)聚合物作為基礎(chǔ)材料，能夠提供樹(shù)脂的粘結(jié)性和拋光性能；磨料則起到研磨晶圓表面的作用，常見(jiàn)的磨料有二氧化硅、氧化鋁等；添加劑則用于調(diào)節(jié)樹(shù)脂的黏度、pH值等特性，以及提供一定的抗氧化性能。 在半導(dǎo)體制造過(guò)程中，半導(dǎo)體拋光樹(shù)脂通常通過(guò)機(jī)械拋光的方式應(yīng)用于晶圓表面。晶圓被放置在旋轉(zhuǎn)盤(pán)上，樹(shù)脂涂敷在晶圓表面，然后通過(guò)旋轉(zhuǎn)盤(pán)和拋光墊的摩擦作用，使樹(shù)脂中的磨料研磨晶圓表面，達(dá)到平滑和去除缺陷的效果。 半導(dǎo)體拋光樹(shù)脂具有良好的拋光性能、穩(wěn)定的化學(xué)性質(zhì)和可靠的機(jī)械性能，可以滿(mǎn)足半導(dǎo)體制造過(guò)程中對(duì)晶圓表面質(zhì)量的要求。同時(shí)，它還能夠減少晶圓表面的殘留污染物，提高半導(dǎo)體器件的性能和可靠性，因此在半導(dǎo)體制造工藝中得到了廣泛應(yīng)用。

超純水是為了研制超純材料（半導(dǎo)體原件材料、納米精細(xì)陶瓷材料等）應(yīng)用蒸餾、去離子化、反滲透技術(shù)或其它適當(dāng)?shù)某R界精細(xì)技術(shù)生產(chǎn)出來(lái)的水，其電阻率大于18 MΩcm，或接近18.3 MΩcm極限值（25℃）。
超純水精處理混床樹(shù)脂系采用國(guó)際上的核子級(jí)樹(shù)脂制造工藝，采用高純?cè)噭┙?jīng)多道嚴(yán)格工序精制而得的一種超純精制樹(shù)脂（拋光樹(shù)脂）。
適合于應(yīng)用在RO、EDI系統(tǒng)裝置中做為終端精制混床，用于電子產(chǎn)品生產(chǎn)、半導(dǎo)體材料制備等行業(yè)的超純水生產(chǎn)，超純水精制中，如生產(chǎn)磁盤(pán)驅(qū)動(dòng)器、顯示設(shè)備、立的半導(dǎo)體設(shè)備、低密集成電路，或者用于后級(jí)集成電路的分塊和配件操作中,也可用于各種水處理工藝后進(jìn)行的精處理，含物質(zhì)的水處理系統(tǒng)等。具有產(chǎn)品純度高，運(yùn)行周期長(zhǎng)，出水水質(zhì)穩(wěn)定，溶出物極低等特點(diǎn)。
當(dāng)進(jìn)水水質(zhì)＞16.5MΩ.cm時(shí)，出水水質(zhì)可達(dá)18MΩ.cm以上。且TOC含量水于5ppb。

主要應(yīng)用于水的直接純化，電子工業(yè)純水的制備，以及其它各種水處理工藝的后續(xù)混床精處理。適用于出水要求高且不具備高要求再生條件的各水處理領(lǐng)域，諸如顯示設(shè)備﹑計(jì)算器硬盤(pán)﹑CD-ROM﹑精密線(xiàn)路板﹑離散電子設(shè)備等精密電子產(chǎn)品行業(yè)、醫(yī)藥及、化妝品行業(yè)、精密機(jī)械加工行業(yè)等