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半水基清洗劑的特點(diǎn)是揮發(fā)速度很慢，氣味小。采用半水基清洗劑清洗的設(shè)備在個清洗單元中無需密封冷凝和蒸餾回收裝置。但由于半水基清洗劑粘度較大，并且對后續(xù)工序使用的水基清洗劑有乳化作用，所以第二個單元須市水漂洗，并且好將其設(shè)為漂洗。國內(nèi)應(yīng)用此種工藝的企業(yè)不多，其中一個原因是半水基清洗劑多為進(jìn)口，價格比較昂貴。從水基清洗單元開始，半水基清洗工藝同溶劑清洗工藝基本相同。在此不再贅述。兩種清洗方式的比較溶劑清洗是比較傳統(tǒng)的方法，其優(yōu)點(diǎn)是清洗速度快，效率比較高，溶劑本身可以不斷蒸餾再生，循環(huán)使用；但缺點(diǎn)也比較明顯，由于光學(xué)玻璃的生產(chǎn)環(huán)境要求恒溫恒濕，均為封閉車間，溶劑的氣味對于工作環(huán)境多少都會有些影響，尤其是使用不封閉的半自動清洗設(shè)備時。GMP與潔凈廠房的建設(shè)要求GMP的基本概念GMP是《優(yōu)良藥品生產(chǎn)標(biāo)準(zhǔn)》的英文GoodmanufacturePracticeforDrugs的簡稱,我國制定為《藥品生產(chǎn)質(zhì)量管理規(guī)范》。《GMP》是在藥品生產(chǎn)全過程中用科學(xué)、合理、規(guī)范化的條件和方法來生產(chǎn)優(yōu)良藥品的一整套科學(xué)管理方法和實(shí)施措施。實(shí)施GMP的目的就是為了使用者能得到的藥品，但又不是僅僅通過終的檢驗(yàn)來達(dá)到的，而是在藥品生產(chǎn)的全過程實(shí)施科學(xué)的全程管理和嚴(yán)密的監(jiān)控來獲得預(yù)期質(zhì)量的藥品。
